Hafnium tetrachloride | Trab HFCL4 | CAS 13499-05-3 | Prezz tal-fabbrika

Deskrizzjoni qasira:

Hafnium tetrachloride għandu applikazzjonijiet importanti bħala prekursur tal-ossidu tal-hafnium, katalist għal sinteżi organika, applikazzjonijiet nukleari, u deposizzjoni ta 'film irqiq, li jenfasizza l-versatilità u l-importanza tiegħu f'diversi oqsma teknoloġiċi.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Ibgħatilna l-email

Dettall tal-prodott

Tags tal-prodott

Deskrizzjoni tal-Prodott

Introduzzjoni qasira

Isem tal-Prodott: Hafnium tetrachloride
CAS NO.: 13499-05-3
Formula Kompost: HFCL4
Piż molekulari: 320.3
Dehra: Trab abjad

Speċifikazzjoni

Oġġett	Speċifikazzjoni
Dehra	Trab abjad
HFCL4 + ZRCL4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Applikazzjoni

Prekursur tad-dijossidu tal-hafnium: Hafnium tetrachloride jintuża primarjament bħala prekursur biex jipproduċi dijossidu hafnium (HFO2), materjal bi proprjetajiet dielettriċi eċċellenti. HFO2 huwa użat ħafna f'applikazzjonijiet dielettriċi ta 'K-K għal transistors u kondensaturi fl-industrija tas-semikondutturi. HFCL4 huwa essenzjali fil-manifattura ta 'apparati elettroniċi avvanzati minħabba l-abbiltà tiegħu li jiffurmaw films irqaq ta' dijossidu ta 'hafnium.
Katalizzatur tas-sinteżi organika: Hafnium tetrachloride jista 'jintuża bħala katalist għal diversi reazzjonijiet ta' sinteżi organika, speċjalment polimerizzazzjoni tal-olefin. Il-proprjetajiet ta 'l-aċidu Lewis tagħha jgħinu biex jiffurmaw intermedji attivi, u b'hekk itejbu l-effiċjenza ta' reazzjonijiet kimiċi. Din l-applikazzjoni hija ta 'valur fil-produzzjoni ta' polimeri u komposti organiċi oħra fl-industrija kimika.
Applikazzjoni nukleari: Minħabba s-sezzjoni trasversali ta 'assorbiment ta' newtroni għolja tagħha, il-hafnium tetrachloride huwa użat ħafna f'applikazzjonijiet nukleari, speċjalment fil-vireg ta 'kontroll tar-reatturi nukleari. Hafnium jista 'jassorbi b'mod effettiv in-newtroni, u għalhekk huwa materjal adattat għar-regolazzjoni tal-proċess tal-fissjoni, li jgħin biex itejjeb is-sigurtà u l-effiċjenza tal-ġenerazzjoni tal-enerġija nukleari.
Depożizzjoni ta 'film irqiq: Hafnium tetrachloride jintuża fil-proċessi ta 'deposizzjoni tal-fwar kimiku (CVD) biex jiffurmaw films irqaq ta' materjali bbażati fuq il-hafnium. Dawn il-films huma essenzjali f'varjetà ta 'applikazzjonijiet, inklużi mikroelettronika, ottika, u kisi protettiv. Il-ħila li tiddepożita films uniformi u ta 'kwalità għolja tagħmel l-HFCL4 ta' valur fi proċessi ta 'manifattura avvanzati.